1.4031生銹原因
上海隆繼供應(yīng)撫順鍋爐管道用不銹鋼產(chǎn)品名稱：P5、P9、T/P91 、T/P92、TP347H、TP304L、TP321
產(chǎn)品規(guī)格：軋材、鍛材；主要用途：撫順特鋼生產(chǎn)的電站鍋爐管坯廣泛應(yīng)用于制造壁溫≤650℃用過熱器、再熱器鋼管、蒸汽管道、核電熱交換器等，別猶豫，來上海隆繼吧，我們的現(xiàn)貨庫存肯定能滿足您的需求；產(chǎn)品可批發(fā)可零售，具體規(guī)格數(shù)量具體報(bào)價(jià)。同時(shí)本公司擁有1.4031材料免費(fèi)送樣、硬度測(cè)試、材質(zhì)報(bào)告、精光板加工等多項(xiàng)服務(wù)，方便廣大客戶選擇。
品名：1.4031 德國不銹鋼
鋼號(hào)：X39Cr13
材料號(hào)：1.4031
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：BS EN 10088-2
C：0.36/0.42
Si：1.00
Mn：1.00
P：0.04
S：0.02
N：-
Cr：12.5/14.5
CU：-
Mo：-
Ni：-
Others：-
1.4031生銹原因
1.4031不銹鋼表面離子滲氮(碳)技術(shù)
1.4031不銹鋼應(yīng)用范圍十分廣泛。面對(duì)當(dāng)前資源短缺的現(xiàn)狀，采用各種強(qiáng)化措施來已開發(fā)1.4031不銹鋼鋼種的性能，進(jìn)一步發(fā)揮各種1.4031不銹鋼的優(yōu)勢(shì)，拓展其應(yīng)用范圍，是一項(xiàng)迫切而意義深遠(yuǎn)的工作。1.4031表面改性處理是低而有效提高材料表面硬度、耐磨性和性能的重要方法。
1.4031由于不銹鋼表面氧化膜的存在，使一般的氣體滲氮很難進(jìn)行。雖然表面活化處理后的1.4031不銹鋼可以進(jìn)體滲氮處理，但是工序復(fù)雜，不易控制，所以人們逐漸采用了一些新的滲氮工藝技術(shù)。離子滲氮技術(shù)就是其中應(yīng)用的一種。常規(guī)離子滲氮是在 500～560℃溫度下的N2和H2或NH3混合氣氛中進(jìn)行的。由于離子滲氮能直接去除1.4031不銹鋼表面的鈍化膜，并易于實(shí)現(xiàn)局部滲氮和較容易控制氮?jiǎng)荩?span style="color: rgb(255, 0, 0); ">1.4031不銹鋼表面強(qiáng)化方面顯示出較大*性。對(duì)一些馬氏體不銹鋼進(jìn)行離子滲氮的結(jié)果表明，離子滲氮可有效地在不銹鋼表面形成一定厚度的滲氮層，而不需要進(jìn)行去除氧化膜的預(yù)處理。滲氮后的1.4031不銹鋼硬度和耐磨性均有顯著提高。但是常規(guī)的離子滲氮容易在1.4031不銹鋼表面形成CrN而使基體出現(xiàn)貧鉻，進(jìn)而降低不銹鋼的耐蝕性。所以，盡管經(jīng)離子滲氮處理后1.4031不銹鋼的表面硬度、耐磨性和抗擦傷、抗膠合能力有大幅度提高，但若處理不當(dāng)，容易發(fā)生表層剝落、硬化層(滲氮層) 厚度不均勻以及耐腐蝕性大幅下降等質(zhì)量問題。
1.4031為了避免高溫下形成CrN，損害不銹鋼固有的耐蝕性，必須發(fā)展低溫處理方法。上世紀(jì)80年代研發(fā)了等離子體低溫滲氮研究，很好地解決了奧氏體不銹鋼經(jīng)處理后耐蝕性降低的技術(shù)難題。該技術(shù)的關(guān)鍵是在低溫下(350～450℃) 進(jìn)行，以避免形成CrN而使基體貧鉻后耐蝕性下降。
1.4031盡管低溫滲氮技術(shù)克服了滲氮后不銹鋼耐蝕性下降的問題，但離子滲氮也有其本身的缺點(diǎn)，如邊界效應(yīng)、空心陰效應(yīng)，以及工件溫度不均等。為了克服離子滲氮的缺點(diǎn)，人們開發(fā)了活化屏離子滲氮技術(shù)。在活化屏滲氮技術(shù)中，工件處于懸浮狀態(tài)，離子轟擊金屬屏而不是工件本身。與常規(guī)離子滲氮相比，該技術(shù)可以處理不同形狀的工件，并能消除邊緣效應(yīng)以及空心陰效應(yīng)，還能方便地測(cè)量工件的溫度。對(duì)AISI 420馬氏體不銹鋼的活化屏滲氮行為的研究表明，新工藝不僅消除了邊界效應(yīng)，而且具有更高的滲氮效率，同時(shí)還可以*消除由邊界效應(yīng)引起的腐蝕環(huán)。
與滲氮相似，對(duì)1.4031不銹鋼進(jìn)行滲碳處理也可分為氣體滲碳和離子滲碳兩大類型。傳統(tǒng)氣體滲碳溫度很高，一般在800～1000℃，所以對(duì)1.4031不銹鋼很少使用，主要采用低溫離子滲碳技術(shù)。低溫離子滲碳處理通常在550℃以下進(jìn)行，所用氣體為H2和CH4或C2H2的混合氣體。
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